離子濺射儀用於在SEM中塗覆非導電樣品,使樣品具有良好的導電性並避免充電效應,從而看到更好的電子顯微鏡效果。金噴塗儀的原理是離子濺射。離子濺射金噴塗儀可用於大多數樣品,特別是熱敏生物樣品,而碳鍍儀用於熱蒸發。由於塗覆過程會產生高溫,因此不適合塗覆熱敏樣品。
離子濺射儀的應用領域:
1、在光學領域:中頻閉場非平衡磁控濺射技術也應用於光學膜(如抗反射膜)、低輻射玻璃和透明導電玻璃。
2、在裝飾領域的應用,如各種全反射膜和半透明膜,如手機外殼、鼠標等。

3、作為一種非熱塗層技術,應用於微電子領域。各種功能薄膜:如具有吸收、透射、反射、折射、偏振等功能的薄膜。例如,在低溫下沉積氮化矽抗反射膜以提高太陽能電池的光電轉換效率。
4、化學氣相沉積(CVD)難以生長,不適合材料膜沉積,並且可以獲得大麵積的非常均勻的膜。
5、在高溫超導薄膜、鐵電薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜發光材料、太陽能電池和記憶合金薄膜的研究中發揮著重要作用。
6、在機械加工行業,表麵功能膜、超硬膜和自潤滑膜的表麵沉積技術自誕生以來取得了長足的進步,可以有效提高表麵硬度、複合韌性、耐磨性和高溫化學穩定性,從而大大提高塗層產品的使用壽命。
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